案例介紹
光刻膠是一種高分子化合物,主要用于微電子制造中的光刻工藝在微電子制造中,光刻膠的應用非常廣泛,可以用來制造芯片、光學器件、MEMS(微機電系統) 等微型器件。此案例客戶是半導體材料行業。
案例現場
半導體光刻膠反應釜防爆模溫機案例
選用設備
產品名稱:防爆模溫機
機器型號:EUOCBF
設備功率:6KW
功能配置:整機隔離式防爆 EXdII BT4,PLC編程控制,帶冷卻。
案例特點
反應釜控溫光刻膠,使用溫度需要150度,反應期間會有放熱,所以需要增加冷卻功能,設計1 平方( 板式換熱器 )。